新闻中心 
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11-18华海清科“一种化学机械抛光系统及抛光方法”专利获授权天眼查显示，华海清科股份有限公司近日取得一项名为“一种化学机械抛光系统及抛光方法”的专利，授权公告号为CN115194640B，授权公告日为2024年10月18...
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11-152025年SiC晶圆衬底供应过剩 价格暴跌1.2024年碳化硅（SiC）衬底价格大幅下跌2024年，碳化硅（SiC）衬底价格预计将大幅下跌，标志着功率半导体材料领域的一大变革。此前持续的高需求和供应紧张...
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11-08光刻机的分类及特点光刻机根据光源波长和投射方式可分为：近紫外光光刻机：分辨率 50-200nm，适用于低端半导体器件。深紫外光光刻机：分辨率 32-100nm，用于生产中高端半导...
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11-08光刻机的分类及其优缺点光刻机分为接触式和无接触式两类。接触式光刻分辨率高、成本低，但容易损坏掩模；无接触式光刻避免了掩模损坏，适用于大芯片制造，但分辨率稍低、成本较高。无接触式光刻又...
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10-25【专利】北方华创“一种进气管的清洗方法及半导体工艺设备”专利公布；华海清科“驱动机构的保湿控制方法、晶圆清洗装置、存储介质”专利公布1.北方华创“一种进气管的清洗方法及半导体工艺设备”专利公布2.华海清科“驱动机构的保湿控制方法、晶圆清洗装置、存储介质”专利公布3.清华大学交叉信息研究院段路...
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10-19【专利】芯联集成“半导体器件及其制备方法”专利公布；维信诺“阵列基板的制备方法、阵列基板和显示面板”专利公布；京东方“一种显示基板和显示装置”专利获授权1.维信诺“阵列基板的制备方法、阵列基板和显示面板”专利公布2.京东方“一种显示基板和显示装置”专利获授权3.康希通信“电容失效检测方法”专利获授权4.芯联集成...
