新闻中心 
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12-23华海清科：公司自主研发清洗装备已批量用于晶圆再生生产华海清科积极拓展CMP装备清洗模块市场，自主研发的清洗技术已批量应用于晶圆再生生产，并成功交付4/6/8英寸化合物半导体刷片清洗装备和12英寸单片终端清洗机。公...
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11-24华海清科天津二期厂区启用2024年11月20日，华海清科股份有限公司（简称“华海清科”）天津二期厂区正式启用。1.天津基地主要用于CMP装备及晶圆再生生产2.北京基地主要开展高端半导体...
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11-18华海清科“一种化学机械抛光系统及抛光方法”专利获授权天眼查显示，华海清科股份有限公司近日取得一项名为“一种化学机械抛光系统及抛光方法”的专利，授权公告号为CN115194640B，授权公告日为2024年10月18...
