新闻中心 
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04-04华虹宏力“改善台面结构削角的方法”专利公布上海华虹宏力半导体制造有限公司一项名为“改善台面结构削角的方法”的专利技术已于2025年2月28日公开，申请公布号为CN119542136A。天眼查信息显示，该...
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02-17华虹宏力“SONOS存储器件及其制备方法”专利公布上海华虹宏力半导体制造有限公司近日公布一项名为“SONOS存储器件及其制备方法”的专利（申请公布号：CN119212394A，申请公布日：2024年12月27日...
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01-20华虹宏力“沟槽栅的制造方法”专利获授权上海华虹宏力半导体制造有限公司近日获得一项关于“沟槽栅制造方法”的专利授权（授权公告号：CN114220734B，授权公告日：2024年12月10日，申请日：2...
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01-18华虹宏力“CMOS图像传感器的制造方法”专利获授权上海华虹宏力半导体制造有限公司近日获得一项关于CMOS图像传感器制造方法的专利授权，专利号为CN114242742B，授权日期为2024年12月6日，申请日期为...
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01-17华虹宏力“降低栅源电容的方法”专利公布上海华虹宏力半导体制造有限公司近日获得一项名为“降低栅源电容的方法”的专利授权，申请公布日为2024年12月10日，公布号为CN119108271A。该专利技术...
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01-14华虹宏力“闪存器件的制备方法”专利公布天眼查显示，上海华虹宏力半导体制造有限公司“闪存器件的制备方法”专利公布，申请公布日为2024年8月21日，申请公布号为CN119136552A。本申请提供一种...
