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光刻机的作用及工作原理
光刻机是将电路图样复制到硅片上的设备，用于半导体制造。其工作原理遵循光刻胶成像和蚀刻工艺，包括：涂布光刻胶。掩模对准。曝光。显影。蚀刻。去胶。
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