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03-21投资已超10亿元，宁波冠石半导体光掩模版制造项目通线宁波冠石半导体光掩模版制造项目正式投产！宁波前湾新区近日发布消息，宁波冠石半导体光掩模版制造项目于3月19日举行新品发布暨通线仪式，标志着该项目正式投产。（来源...
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02-20尼康将于2028年推出新的ArF浸润式光刻机尼康剑指半导体光刻市场龙头，计划于2028财年（2028年4月-2029年3月）推出全新ArF浸润式光刻系统。此举旨在挑战ASML的市场主导地位，并与ASML设...
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12-25伏尔肯获毅达资本投资，系碳化硅陶瓷材料企业宁波伏尔肯科技股份有限公司（以下简称“伏尔肯”）近日宣布获得毅达资本数千万元投资。此轮融资将主要用于新产品研发和市场拓展。伏尔肯，一家成立于1998年的国家级专...
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12-02单片机是怎么做出来的单片机制造过程涉及以下步骤：1. 设计和布局：设计架构和布局。2. 光刻和蚀刻：将电路图案转印并蚀刻到硅晶圆上。3. 沉积和掺杂：形成元件并改变硅电导率。4. ...
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12-01光刻机的分类和参数根据光源类型，光刻机分为：i线、KrF、ArF 和 EUV 光刻机。光刻机的性能由分辨率、套刻精度、曝光场、吞吐量、生产力和波长等参数描述，其中波长决定了分辨率...
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12-01光刻机的结构和工作原理详解光刻机主要包括光源系统、光学系统、掩模版、基板、曝光台、对准系统、抗蚀剂和显影剂。光刻过程涉及基板准备、对齐、曝光、显影、蚀刻和去除光刻胶等步骤。光刻机的关键特...
